(管理局100%補助免費操作機台)6/5(二)《電子束微影與蝕刻製程(含實作)》，名額有限!
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課程名稱：電子束微影與蝕刻製程(含實作) |
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大綱：
6/12課程因台南市發布停班停課，故停課乙次
6/13(三)課程改上理論課，實作日期改為6/14(四) 18:30~21:30
造成不便，請見諒
一、電子束微影理論
二、電子束微影實驗
三、ICP乾蝕刻理論
四、ICP乾蝕刻實驗
(實作機台操作:電子束微影系統)
(實作機台操作:無塵室 PECVD & ICP 設備)
電子束微影
上課地點: 成功大學自強校區科技大樓 4樓會議室
(台南市大學路一號)
理論課程: 6/5(三) 18:30~21:30
*實作課程*分2梯次 (一梯次7~8人)
實作地點: 成功大學自強校區 儀器大樓B1
實作課程時間: 6/6(三)及6/7(四) 18:30~21:30
蝕刻
上課地點: 國家奈米元件實驗室1樓教育訓練二
(南科園區南科三路27號1樓)
理論: 6/12(二)
實作: 6/13(三)-PECVD&ICP設備使用 (國家奈米實驗室)
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授課日期：101/6/5(二)6/6(三)6/7(四) 6/12(二) 6/13(三) 18:30~21:30 |
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報名期限：2012-01-02 |
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上課地點：成功大學自強校區(台南市)/國家奈米元件實驗室(南科園區) |
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收費標準：繳交保證金2000元(恕無法使用刷卡及禮卷) |
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時數：12 |
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類別：南管局101專技人培-半導體 |
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開班人數：15 |
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備註：本課程為「101年度專業及技術人才培訓計畫」之課程! 僅酌收保證金!
請報名學員務必於開課前繳納完畢，以免影響上課權益!
保證金退還】
學員出席率需達80%且通過評量測驗，取得結業證書後，將無息退還
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